2024年12月21日に慶應大学日吉キャンパス/オンライン（ハイブリット）にて開催された「第51回社会におけるAI研究会(SIG-SAI)」に本研究室より、古田 悠華さん（修士1年）が参加し、研究発表を行いました。
[第51回社会におけるAI研究会(SIG-SAI)]◆ 古田悠華, 横山想一郎, 山下倫央, 川村秀憲：LoRAを用いた画像生成モデルの追加学習による衣服特徴描画
近年，画像生成モデルは急速に進化し，さまざまな分野でその応用が拡大している．本研究では，LoRA (Low-Rank Adaptation) を活用した追加学習手法を用い，画像生成モデルにより多くの衣服特徴を描画する能力を付加することを目的とした．特に，従来の大規模生成モデルが困難とする衣服特有の表現に着目し，既存モデルに対して効率的かつ柔軟なチューニングを施した．
本研究では，既存の画像生成モデルにLoRAを導入し，衣服データセットを用いて追加学習を実施した．モデルのパラメータ数を大幅に増加させることなく，衣服のデザインや形状といった特徴を効果的に描画する性能向上を目指した．その結果，衣服特有の形状や模様の表現において，従来モデルと比較して一定の改善が観察された．また，LoRAを用いることで学習効率が向上し，計算資源を抑えた形でのモデル調整が可能であることを示した．
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